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化学气相沉积炉
产品描述
该系统可针对硬质合金切削刀片等各类工具或零部件涂覆TiC、TiN、TiCN、α-Al2O3、 κ-Al2O3等单层及多层复合硬质化薄膜材料。CVD涂层与基体结合强度高,附着力强,均匀性好,形状复杂的工件也可得到均匀的镀层,薄膜厚度可达5-20μm。
设备配有双反应腔室,经济高效,维护成本低,安全环保,并可灵活满足未来不断提升的CVD工艺需求。
技术参数
工作空间(mm)
Φ500×1500(双反应室)
料盘直径(mm)
Φ375
有效料盘数量(pcs)
37
最高工作温度(℃)
1050
加热功率(KVA)
55
工艺气体
Ar, H
2
, N
2
, HCI, CH
2
, H
2
S, CO
2
, CO
先驱体
TiCI
4
, CH
3
CN,AICI
3
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